從理論分析和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)得知，搪燒對(duì)搪玻璃反應(yīng)釜的質(zhì)量，尤其是搪玻璃反應(yīng)釜的穩(wěn)定性有著重要影響。搪燒主要有兩個(gè)過(guò)程：燒成過(guò)程（設(shè)備從室溫受熱升至瓷釉玻璃化的溫度）和降溫過(guò)程（設(shè)備從玻璃化溫度降至室溫）。一臺(tái)搪玻璃反應(yīng)釜一般要噴1次～2次底釉，面釉若干次，搪燒若干次。

燒成工藝制度是指控制燒成過(guò)程中的溫度和時(shí)間的措施。燒成過(guò)程中瓷釉和鋼及爐窯內(nèi)空氣本身就有物理化學(xué)變化，更為重要的是它們之間有劇烈的物理化學(xué)變化，變化的結(jié)果直接影響釉層的缺陷、穩(wěn)定性、物理化學(xué)性能，升溫速率及保溫時(shí)間的長(zhǎng)短，對(duì)獲得高質(zhì)量的搪玻璃反應(yīng)釜起著重要作用。重要的物理參數(shù)有瓷釉的固化溫度(Ts)和軟化溫度(Tg)及融化溫度(Tt)，它們將決定燒成制度的制定；反之，這些參數(shù)也是溫度速率的函數(shù)，尤其是軟化溫度，燒成制度也影響它們的確定，這樣給工藝制度的制定帶來(lái)困難。以3000L搪玻璃反應(yīng)釜為例，控制3℃/min的升溫速率，(Ts，Tg，Tt)為(435℃，480℃，532℃)，而無(wú)控的10℃／min的升溫速率，（Ts，Tg，Tt）較(435℃，480℃，532℃)往后移動(dòng)。

燒成工藝制度對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量影響有以下幾方面。

在升溫的各溫度段內(nèi)主要化學(xué)反應(yīng)有：

室溫至120℃，瓷粉表面水分蒸發(fā)；

350℃至600℃，懸浮劑、粘土等化學(xué)結(jié)合水脫水；

700℃至730℃，鋼板脫碳，碳和空氣中氫發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生CO和C02;

750℃至燒成溫度，化學(xué)反應(yīng)有

1．對(duì)再沸現(xiàn)象控制

為克服搪燒工藝中再沸現(xiàn)象（泡影、暗泡），需注意氫在鋼中有低溫析出、高溫溶解的特性，而氫主要來(lái)源于爐窯氣氛和粘土中的水。當(dāng)搪每遍釉時(shí)，來(lái)不及熔進(jìn)鋼中的氫就將面釉鼓成泡，這種現(xiàn)象主要通過(guò)底釉層擴(kuò)散到面釉盡，底釉層突然鼓起泡的溫度稱為再沸臨界溫度，它越高，再沸現(xiàn)象傾向越小。反映底釉層搪燒過(guò)程重要參數(shù)是發(fā)泡溫度，底釉熔融溫度正是放氣激烈的階段，稱為發(fā)泡的臨界溫度，這個(gè)溫度越高或不明顯，底釉質(zhì)量就越好。因此，我們要有效地控制底釉的發(fā)泡臨界溫度和面釉的再沸臨界溫度，減少或避免搪燒工藝中的再沸現(xiàn)象。

2．對(duì)發(fā)紋現(xiàn)象的控制

搪玻璃反應(yīng)釜中接孔外圓弧或下料口與下接圓環(huán)周?chē)膬?nèi)外圓弧及攪拌器漿葉頭等處易出現(xiàn)發(fā)紋，是由于材質(zhì)不均勻性應(yīng)力集中所致。要防止應(yīng)力集中拉裂出現(xiàn)所謂發(fā)紋，在升溫制度上要補(bǔ)償釉層與基材（鋼材）工件溫度差，使工件局部溫度差控制在一定范圍內(nèi)(如±100℃)，即保證溫度的均勻性。所以，升溫速率是變化的，需選擇合適的燒成時(shí)間和溫度，使釉層產(chǎn)生適度的分流速度，才能提高表面的均勻性。即搪玻璃反應(yīng)釜各處必須有不同的熱曲線，才能保證它的溫度均勻性。

3．對(duì)殘余應(yīng)力的控制

由于瓷釉和基材鋼的熱膨脹系數(shù)差異較大，在搪燒過(guò)程中產(chǎn)生的張應(yīng)力和壓應(yīng)力如圖2所示。其中有三個(gè)重要物理參數(shù)(Ts，Tg，Tt)。升溫制度不同，對(duì)殘余應(yīng)力形成影響很大。試驗(yàn)方案采用不同的升溫制度，相同的冷卻制度，24組試驗(yàn)，每組放3個(gè)80×80×6(mm3)基材鋼板施1mm厚的瓷釉的樣品進(jìn)行搪燒。使用應(yīng)力釋放電測(cè)法測(cè)量常溫下的殘余應(yīng)力，見(jiàn)表1。其中σ1與σ2是兩個(gè)垂直方向的應(yīng)值力。從表1看出，受控升溫(溫度速率在不同溫度段控制)比傳統(tǒng)工藝和較長(zhǎng)時(shí)間工藝應(yīng)力分別降低17%和10%，破壞性試驗(yàn)殘余應(yīng)就更大了。